Livrare gratuita la comenzi mai mari de 250 RON
NOU
Masca hidratare profunda Design Essentials Almond & Avocado Wash Day Deep Moisture Masque 340g
95.00lei
În stoc
Ridicare personală
Începând de azi până la 14:00
Gratuit
Livrare la easybox
Luni, 14 Jul - Miercuri, 16 Jul
11.99 Lei
Livrare standard
Luni, 14 Jul - Miercuri, 16 Jul
16.99 Lei
Retur în 30 de zile
Masca hidratanta profunda de la Design Essentials este un tratament intensiv, ideal pentru parul uscat, fragil sau deteriorat. Formulata cu uleiuri de migdale, avocado si floarea-soarelui, aceasta masca patrunde adanc in firul de par, oferind hidratare, reducand ruperea si facilitand descurcarea.
● Hidrateaza intens si intareste firul de par
● Imbunatateste elasticitatea si stralucirea naturala
● Faciliteaza descurcarea si imbunatateste manevrabilitatea
Potrivita pentru parul ondulat, cret sau foarte cret.
Paraben Free
Silicone Free
Vegan
Design Essentials Almond & Avocado Wash Day Deep Moisture Masque este solutia perfecta pentru revitalizarea parului uscat si lipsit de viata. Aceasta masca bogata in nutrienti combina proprietatile hidratante ale uleiurilor de migdale si avocado cu beneficiile uleiului de floarea-soarelui, oferind o hidratare profunda si reducand semnificativ ruperea firului de par. Utilizata regulat, masca imbunatateste elasticitatea, reda stralucirea naturala si faciliteaza descurcarea, lasand parul moale, neted si usor de coafat.
Formulata fara parabeni, ftalati, siliconi sau gluten, este potrivita pentru toate tipurile de par, inclusiv pentru parul vopsit sau tratat chimic.
CUM SE UTILIZEAZA:
-
Dupa samponare, aplica o cantitate generoasa de masca de la radacini pana la varfuri.
-
Distribuie uniform cu ajutorul unui pieptene cu dinti rari.
-
Lasa sa actioneze timp de 15 minute. Pentru o penetrare mai profunda, foloseste o sursa de caldura.
-
Clateste bine cu apa rece.
-
Utilizeaza saptamanal pentru rezultate optime.
Ingrediente
Aqua/Water/Eau, Cetearyl Alcohol, Propylene Glycol, Glycerin, Cetyl Alcohol, Isopropyl Myristate, Helianthus Annuus (Sunflower) Seed Oil, Acetamide MEA, Quaternium-91, Behentrimonium Methosulfate, Fragrance (Parfum), Polyquaternium-10, Pentylene Glycol, Cetrimonium Methosulfate, Propanediol, Cetrimonium Chloride, Persea Gratissima (Avocado) Oil, Prunus Amygdalus Dulcis (Sweet Almond) Oil, Caprylyl Glycol, Ethylhexylglycerin, Chlorphenesin, Benzyl Benzoate, Citral, Geraniol, Linalool, Limonene.
Fii primul care scrii o recenzie pentru „Masca hidratare profunda Design Essentials Almond & Avocado Wash Day Deep Moisture Masque 340g”
Recenzii
Nu există recenzii până acum.